立式真空清洗爐適用于化纖行業(yè)的洗滌、錦綸和丙綸生產(chǎn)用的組件、噴絲板、過濾芯等清潔處理，也適用塑料擠出行業(yè)的模具清潔之用。

該設(shè)備利用高分子聚合物在300°C左右時(shí)可熔融，高于300°C隔絕空氣可裂解焦化，高于400°C在有少量空氣并有一定真空度的環(huán)境中可完全氧化的特性，先將粘有高分子污物的工件加熱到300°C(根據(jù)工藝要求擬定)，使工件上數(shù)量較多的高分子聚合物溶化后流淌到爐膛下部的收集容器內(nèi)，然后再將爐溫升到400°C-500°C，同時(shí)打開真空泵，并通入少量新鮮空氣，使剩余的聚合物充分氧化，生成的二氧化碳，經(jīng)水噴淋后通過環(huán)式真空泵抽吸，和水一起排出爐外。

產(chǎn)品特點(diǎn)

立式真空清洗爐均采用不銹鋼電熱管真空爐膛內(nèi)直接加熱，密封部位均采用密封圈，不需水冷卻保護(hù)，所以，真空清洗爐加熱功率小，熱效率高，升溫速度快，溫度均勻性好，加熱器檢查維修方便，并且，克服了由于水冷卻導(dǎo)致的爐內(nèi)溫度均勻性差，局部清洗效果不好等缺陷。真空清洗爐具有完整的自動(dòng)化工作性能，只要對(duì)程序溫度控制儀輸入擬定的工作程序，設(shè)備即能進(jìn)行自動(dòng)化清洗工作，中途無(wú)需人工干預(yù)，并具有超溫、缺相和斷水或低水壓報(bào)警功能。

工作原理

立式真空清洗爐的原理主要是通過抽取爐腔內(nèi)部的空氣，形成高真空環(huán)境。在高真空環(huán)境下，雜質(zhì)和污垢會(huì)因?yàn)槿狈αＷ娱g的氣體分子作用力而容易脫落，提供了清潔和烘干的條件。同時(shí)，高真空環(huán)境還能有效地防止氧化反應(yīng)的發(fā)生，保護(hù)產(chǎn)品的表面光潔度。

應(yīng)用領(lǐng)域

立式真空清洗爐的應(yīng)用非常廣泛。例如，在電子行業(yè)中，該設(shè)備常用于清洗半導(dǎo)體芯片和集成電路等微細(xì)雜質(zhì)的清除。在光學(xué)鏡片制造工藝中，真空清洗爐可以去除鏡片表面的灰塵和指紋，提高鏡片的透光性和成像質(zhì)量。此外，在航空航天、汽車等制造領(lǐng)域中，也可以利用真空清洗爐清洗和烘干各類零部件，以確保產(chǎn)品質(zhì)量和性能。